Toepassingen van fluorwaterstofzuur

Vanwege het vermogen om oxiden op te lossen, speelt fluorwaterstofzuur een belangrijke rol bij de zuivering van aluminium en uranium. Fluorwaterstofzuur wordt ook gebruikt om glas te etsen, patronen te graveren, schalen te markeren en te schrijven; Het wordt gebruikt in de halfgeleiderindustrie om oxiden van het oppervlak van silicium te verwijderen, in olieraffinaderijen als katalysator voor de alkylering van isobutaan en n-buteen, en in het "dompelproces" om zuurstofhoudende onzuiverheden van het oppervlak van roestvrij staal te verwijderen. staal. Fluorwaterstofzuur wordt ook gebruikt bij de synthese van veel gefluoreerde organische stoffen, zoals Teflon (polytetrafluorethyleen) en koelmiddelen zoals freon.
Zowel fluorwaterstofzuur als gesmolten natriumhydroxide kunnen worden gebruikt om de glascoating op het oppervlak van microfilamenten te verwijderen. Bij kamertemperatuur is de verwijderingstijd van de glascoating met een dikte van 10 μm door fluorwaterstofzuur ongeveer 150 s, en de verwijderingstijd van gesmolten natriumhydroxide ongeveer 10 s. De samenstelling en structuur van glas zijn belangrijke factoren die de corrosieweerstand van met glas gecoate puur koperen microdraden beïnvloeden. Met glas beklede microfilamenten van puur koper werden vervaardigd door middel van smeltspinnen. Het corrosiegedrag van met glas beklede zuivere koperen microfilamenten in fluorwaterstofzuur en gesmolten natriumhydroxide werd geëvalueerd. De corrosieweerstand van met glas beklede puur koperen microfilamenten in sterk zuur en alkali werd geanalyseerd.